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光電化學(xué)之*部分:基礎(chǔ)部分

點(diǎn)擊次數(shù):3343 更新時(shí)間:2017-03-30

詳細(xì)介紹
本應(yīng)用報(bào)告介紹Gamry光電化學(xué)系統(tǒng)系列報(bào)告中的*部分。*部分主要介紹光譜方面的重要術(shù)語和參數(shù)等基本概念。描述了光電化學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置,介紹Gamry光譜設(shè)備。第二部分討論在Gamry Framework軟件中進(jìn)行光譜實(shí)驗(yàn),介紹各參數(shù)的含義,用Echem Analyst進(jìn)行數(shù)據(jù)分析,以具體實(shí)驗(yàn)為例來闡述新的光譜分析。

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美國Gamry電化學(xué)關(guān)鍵詞:多通道電化學(xué)工作站,電化學(xué)工作站價(jià)格,石英晶體微天平,電化學(xué)工作站廠家,電化學(xué)工作站品牌
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